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新聞資訊
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真空燒結爐主要用于半導體元器件及電力整流器件的燒結工藝,可進(jìn)行真空燒結,氣體保護燒結及常規燒結,是半導體專(zhuān)用設備系列中一種新穎的工藝裝備,它設計構思新穎,操作方便,結構緊湊,在一臺設備上可完成多個(gè)工藝流程。亦可用于其他領(lǐng)域內的真空熱處理,真空釬焊等工藝。
氫氣爐按結構可分為立式及臥式兩種,其中立式又分為鐘罩升降式與底部托盤(pán)升降式。爐體均采用水冷夾壁結構,外層為碳鋼,內層為優(yōu)質(zhì)不銹鋼。臥式系列為單開(kāi)門(mén)結構、外加熱方式。
放電等離子燒結是將金屬、陶瓷等粉末裝入模具內,利用上、下模沖及通電電極將特定燒結電源和壓制壓力施加于燒結粉末,經(jīng)放電活化、熱塑變形和冷卻而完成,是制取高性能材料的一種粉末冶金燒結技術(shù)。
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