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第三代半導體材料之碳化硅 氣氛爐
ITO靶材常壓燒結工藝進(jìn)展 真空熱壓爐
真空熱壓爐由爐體、爐蓋、保溫桶、熱壓裝置、發(fā)熱體和電源、真空系統、水冷卻系統及測溫系統等組成。
真空爐是真空環(huán)境中進(jìn)行加熱的設備。在金屬罩殼或石英玻璃罩密封的爐膛中用管道與高真空泵系統聯(lián)接
ITO靶材燒結工藝
AZO靶材 熱壓制備工藝 真空熱壓燒結爐
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