真空爐是一種在爐腔這一特定空間內利用真空系統將爐腔內部分物質(zhì)排出，使爐腔內壓強小于一個(gè)標準大氣壓，爐腔內空間從而實(shí)現真空狀態(tài)的一種設備。它廣泛應用于陶瓷材料、陶瓷金屬復合材料、難熔金屬、合金材料的高溫真空燒結、退火、回火、時(shí)效處理等，以及合金刀具、超硬材料的真空釬焊。
　　
　　真空爐由爐膛、加熱元件、溫控系統、真空系統、水冷系統、密封爐殼等組成。爐膛分為不銹鋼爐膛、陶瓷纖維爐膛、鉬箔爐膛、石墨爐膛，額定溫度從750℃至2200℃。加熱元件主要分為電阻絲、硅碳棒、鉬絲鉬桿、硅鉬棒、石墨、感應線(xiàn)圈等，最高溫度從750℃至2200℃。
　　
　　真空爐的溫控系統主要由熱電偶（測溫）以及溫度控制器（控溫）組成，主要分為PID可編程控制、觸摸屏控制以及PLC全自動(dòng)控制。真空系統根據所需的真空度由真空閥門(mén)、機械泵、擴散泵、羅茨泵組成，最高真空度一般為7×10-3Pa。水冷系統根據爐膛大小需要相匹配的水冷系統，保證真空爐能正常工作。
　　
　　相比傳統爐窯，真空爐具有以下優(yōu)點(diǎn)：
　　
　　1.加熱均勻，適用于各種材料：能夠提供均勻的加熱環(huán)境，適用于各種材料和工藝。
　　
　　2.減少氧化：在真空中加熱可以減少材料的氧化，從而提高材料的質(zhì)量。
　　
　　3.快速加熱：可以在短時(shí)間內將材料加熱到所需溫度，提高了生產(chǎn)效率。
　　
　　4.易于控制：真空爐的控制系統可以精確控制加熱溫度和時(shí)間，從而確保生產(chǎn)過(guò)程中的質(zhì)量和一致性。
　　
　　5.節能環(huán)保：由于可以在較低的溫度下進(jìn)行加熱，因此可以節省能源并減少對環(huán)境的影響。
　　
　　6.適用于各種應用：可以用于各種應用，如陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。
　　
　　總之，真空爐是一種高效、節能、環(huán)保的加熱設備，適用于各種材料和工藝，具有廣泛的應用前景。